佳能发布全新技术：制造5纳米芯片的独特途径

　　10月14日消息，佳能公司宣布推出全新的芯片生产设备FPA-1200NZ2C，该设备采用了一种独特的方法，与传统复杂的光刻技术不同，可以制造出5纳米的芯片。

　　据了解，FPA-1200NZ2C的工作原理与行业领先者ASML的技术截然不同。这一技术更类似于印刷，而不是传统的光刻技术，它不使用图像投影来将集成电路的微观结构转移到硅晶圆上。

　　这套新设备能够适用于最小尺寸为14平方毫米的硅晶圆，从而可以生产出与5纳米工艺相匹配的芯片。这一创新表示，佳能正在探索替代性的制造方法，突破了传统技术的限制。

　　据本站了解，这一技术被称为纳米印刷(Nanoprinted lithography)，通常被视为光学光刻技术的低成本替代方案。此前，一些存储芯片制造商，如SK海力士和铠侠，曾尝试使用这种方法，但面临产品缺陷率较高的问题，最终放弃了这一尝试。

　　佳能表示他们将继续改进和发展这套系统，未来有望应用于生产2纳米的芯片，进一步推动半导体行业的技术发展。